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电容薄膜真空计

CFG-500系列电容薄膜真空计,采用高精度陶瓷膜片技术,测量精度达±0.25%,重复性±0.1%,响应时间<10ms。抗干扰能力强,适用于半导体、薄膜镀膜、真空炉等中高真空环境的精确测量与控制。

CFG-500电容薄膜真空计

CFG-500电容薄膜真空计

CFG-500系列电容薄膜真空计,采用高精度陶瓷膜片技术,测量精度±0.25%,重复性±0.1%,响应时间<10ms。抗干扰能力强,适用于半导体、薄膜镀膜、真空炉等中高真空环境

±0.25%
测量精度
±0.1%
重复性
<10 ms
反应时间